冷水機在真空鍍膜工（gōng）藝中的作用

真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發落在（zài）工件表麵結晶。由於空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力（lì）造成碰（pèng）撞使結晶體變得粗（cū）糙無光，所以必須在高真空下才能（néng）使結晶（jīng）體（tǐ）細密光亮，果如真空度不高結晶（jīng）體就會失去光澤結合力也很差。早期真空（kōng）鍍膜是依靠蒸發體自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺（jiàn）射出大量的靶材原子，呈中性的靶（bǎ）原子（或分子）沉積在（zài）基片上成膜，解（jiě）決了過去自然蒸發（fā）無法加工的膜體品（pǐn）種，如鍍鈦鍍鋯（gào）等等（děng）。中頻（pín）設備必須加冷卻水，原因是它（tā）的頻率高電流大。電流（liú）在導體流動時有一個集（jí）膚效應，電荷（hé）會聚集在電導有表麵積，這樣使電導發熱所以采用（yòng）中孔管做導體中間（jiān）加水冷卻（què）。（主要是圓柱靶）為什麽也要用水冷卻？磁（cí）控濺射靶（bǎ）在發射時會產生高溫會使射槍變形，所以它有一個水套來冷卻射槍（qiāng）。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認為（wéi）是鍍（dù）膜技術中最突出的成就之（zhī）一。它以濺射率高、基片溫升低（dī）、膜-基結合（hé）力好。從更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運動規律，探討了（le）磁控濺射的更一般原理以（yǐ）及磁場（chǎng）的橫向不（bú）均勻性及（jí）對稱性是磁約束的本質（zhì）原因。磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中最突（tū）出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好、裝置性能穩定。冷水機是一種水冷卻設備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻（què）水設備。其工作原理是先（xiān）向（xiàng）機內水箱（xiāng）注入（rù）一定量的水，通過製冷係統（tǒng）將水冷卻（què），再由水泵將低溫冷卻水送入需（xū）冷卻的設備，冷凍（dòng）水（shuǐ）將熱量帶走後（hòu）溫度升高再（zài）回流到水（shuǐ）箱，達到（dào）冷卻的作用。冷（lěng）卻水溫可根據要求自動調節，長期使用可節約用水（shuǐ）。 冷水機（jī）能控製真空（kōng）鍍膜機的溫度，以保證鍍件（jiàn）的高質量（liàng）。如果不配冷水機就不能使真空鍍（dù）膜（mó）機達到高（gāo）精度（dù）、高效（xiào）率控製溫度的目的，因為自（zì）然水（shuǐ）和水塔散熱都不可避（bì）免地受到自然氣溫的影響，而且此方式控製是極不穩定的。冷水機具有完全獨立的製冷係統，絕不（bú）會受氣溫及環境的影響，水溫在5℃～30℃範圍內調節控製，因而可以達到高精度、高效率控製溫度的目的，冷水（shuǐ）機設有獨立的水循環係統。